用于研究開發(fā)的高密度等離子蝕刻裝置NE-550 EX，以有磁場ICP（ISM＝Inductivery Super Magnetron）方式的高密度等離子蝕刻裝置，采用單葉式的標準裝備了LL室，實現(xiàn)了緊湊、低價格。

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特長

·通過磁場輔助，可以產(chǎn)生比其他ICP方式低壓力、低電子溫度、高密度等離子體，從離子性蝕刻到自由基性蝕刻，可以進行寬范圍的等離子體控制，因此可以對應于作為開發(fā)tool的多用過程。

·搭載了防止RF投入窗的沉積物附著的“Star電極”。另外，具有加熱功能，重視再現(xiàn)性和穩(wěn)定性的裝置概念。

·實現(xiàn)作為高可靠性輸送機器人、裝置構造簡單、維護簡單等研究開發(fā)Tool的可靠性。

·還可以追加豐富的可選功能和暗盒室。

·面向批量生產(chǎn)線，推出了由同一個Chamber構成的支持多個Chamber的NE-5700、NE-7700。

用途

·化合物材料（LED、LD、高頻器件和功率器件）。

·電極加工、金屬布線、有機膜、陶瓷等加工。

·用于加工鐵電體、貴金屬、磁性膜等難蝕刻材料。

·納米壓印、NEMS、MEMS、各種傳感器。

·生物芯片、微流體裝置、光子晶體等。

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