控溫型浸漬提拉鍍膜機，提拉鍍膜機，垂直提拉機本公司專業提供1.高性能浸漬提拉鍍膜機，型號多樣，有SYDC-100，200,300,500,1000。還有SYDC-100H，200H，SYDC-100M，SYDC-100N等2.高性能程控勻膠機，SYSC-100,100A，100B，150,200,300等。

工欲善其事 必先利其器 上海三研科技有限公司致力于為納米薄膜材料、納米粉體材料領域的科學研究及產品生產提供優質的儀器設備。 我們的浸漬提拉鍍膜機產品用于溶膠-凝膠法制備納米薄膜材料。不同型號的提拉鍍膜機，可用于從10mm至2000mm不同尺寸基片的納米薄膜制備，可控制膜厚從幾十納米至幾百納米，可在恒溫、氣氛（氮氣）條件下鍍膜，可實現全自動多層材料的鍍膜。采用高精度進口零部件，運行穩定、精密度高、無振動，鍍膜無條紋，設備免維護。 我們的高精度程控勻膠機產品采用高速伺服電機，可用于基底的單面旋轉涂膜，基底材料可選硅片、玻璃、金屬、塑料等材質，基底尺寸從?10mm～?300mm均可涂膜，全自動程序控制，運行穩定。 我們可以提供溶膠-凝膠法制備薄膜材料的技術咨詢服務，從前驅物的選擇、溶膠的配置、鍍膜、到熱處理等一系列的工藝過程都是我們熟悉并擅長的。

控溫型浸漬提拉鍍膜機，提拉鍍膜機，垂直提拉機
控溫型浸漬提拉鍍膜機，提拉鍍膜機，垂直提拉機
控溫型浸漬提拉鍍膜機，提拉鍍膜機，垂直提拉機

SYDC-100H

一.產品應用
本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
二.產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、工作時液面無振動，可大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三.產品特點
1.的垂直提拉裝置。新升級為瑞士原裝進口的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
2.采用伺服電機驅動。配合瑞士原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定性，已達到完全消除提拉震動的效果，確保涂膜均勻。
3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
4.鍍膜系統采用7英寸液晶觸摸屏使控制更方便；運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
5.整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行。恒溫場溫度控制系統采用LCD液晶顯示，可控溫，溫度均勻性好。可設置多段程序控溫。
6.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降的超限運行。
7.高、低速均運行平穩，運行連續、平滑。鍍膜時液面無振動，使成膜更均勻； 
8.特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片； 
四.技術參數
1.提拉速度范圍：1～6000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
2.適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
3.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
4.循環鍍膜次數：1～1000次，少1次；
5.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
7.溫度波動度：≤±1℃；
8.恒溫場內尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）；
9.電源：220V/50Hz 

SYDC-200H

一.產品應用
本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）
中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，
稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干
凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
二.產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel 法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不
同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、
鍍膜間隔時間均連續可調、控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍
膜。運行穩定、工作時液面無振動，可大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三.產品特點
1.的垂直提拉裝置。新升級為德國原裝進口的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料
制作，具有度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
2.采用伺服電機驅動。配合德國原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及
穩定性； 伺服電機運轉時的、平滑性、無抖動等特點是步進電機不可比擬的。
3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、
鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸
漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
4.鍍膜系統采用7 英寸液晶觸摸屏使控制更方便；運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解
鍍膜進程；
5.整個鍍膜過程在恒溫溫度場內進行。恒溫場溫度控制系統采用LCD 液晶顯示，可控溫，
溫度均勻性好。可設置多段程序控溫。
6.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降
的超限運行。
7.高、低速均運行平穩，運行連續、平滑。鍍膜時液面無振動，使成膜更均勻；
8.特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片；
四.技術參數
1.提拉速度范圍：1～8000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
2.適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；
3.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
4.鍍膜次數：1～1000 次，少1 次；
5.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
7.溫度波動度：≤±0.2℃；
8.恒溫場內尺寸：450×550×550 mm（W×D×H）；
9.電源：220V/50Hz

本頁產品地址：http://www.lgsztm.com/sell/show-8024285.html