上海三研，氮?dú)獗Ｗo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)，提拉機(jī)本公司專業(yè)提供1.高性能浸漬提拉鍍膜機(jī)，型號(hào)多樣，有SYDC-100，200,300,500,1000。還有SYDC-100H，200H，SYDC-100M，SYDC-100N等2.高性能程控勻膠機(jī)，SYSC-100,100A，100B，150,200,300等。

工欲善其事 必先利其器 上海三研科技有限公司致力于為納米薄膜材料、納米粉體材料領(lǐng)域的科學(xué)研究及產(chǎn)品生產(chǎn)提供優(yōu)質(zhì)的儀器設(shè)備。 我們的浸漬提拉鍍膜機(jī)產(chǎn)品用于溶膠-凝膠法制備納米薄膜材料。不同型號(hào)的提拉鍍膜機(jī)，可用于從10mm至2000mm不同尺寸基片的納米薄膜制備，可控制膜厚從幾十納米至幾百納米，可在恒溫、氣氛（氮?dú)猓l件下鍍膜，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)多層材料的鍍膜。采用高精度進(jìn)口零部件，運(yùn)行穩(wěn)定、精密度高、無振動(dòng)，鍍膜無條紋，設(shè)備免維護(hù)。 我們的高精度程控勻膠機(jī)產(chǎn)品采用高速伺服電機(jī)，可用于基底的單面旋轉(zhuǎn)涂膜，基底材料可選硅片、玻璃、金屬、塑料等材質(zhì)，基底尺寸從?10mm～?300mm均可涂膜，全自動(dòng)程序控制，運(yùn)行穩(wěn)定。 我們可以提供溶膠-凝膠法制備薄膜材料的技術(shù)咨詢服務(wù)，從前驅(qū)物的選擇、溶膠的配置、鍍膜、到熱處理等一系列的工藝過程都是我們熟悉并擅長的。

上海三研，氮?dú)獗Ｗo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)，提拉機(jī)
上海三研，氮?dú)獗Ｗo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)，提拉機(jī)
上海三研，氮?dú)獗Ｗo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)，提拉機(jī)

SYDC-100N

一.產(chǎn)品應(yīng)用
本產(chǎn)品主要用于在氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)下，采用溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
二.產(chǎn)品簡介
浸漬提拉鍍膜機(jī)是是專門為氮?dú)鈿夥毡Ｗo(hù)下的液相法（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)。垂直提拉機(jī)構(gòu)置于密閉箱體內(nèi)，箱體側(cè)壁設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)口及壓力控制系統(tǒng)。鍍膜時(shí)，將溶液放入箱體內(nèi)，基片加持在垂直提拉機(jī)構(gòu)上，將氮?dú)獬錆M箱體（氮?dú)獾某淙肓靠赏ㄟ^控制箱體內(nèi)的濕度來調(diào)節(jié)），設(shè)置鍍膜參數(shù)后即可在氮?dú)鈿夥盏谋Ｗo(hù)下對溶液進(jìn)行提拉鍍膜。
適用于膜層易氧化、對濕度敏感的薄膜材料。還可充入氬氣等惰性氣體。
提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動(dòng)，可大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。
三.產(chǎn)品特點(diǎn)
1.的垂直提拉裝置。新升級(jí)為瑞士原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有度高、傳動(dòng)無間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、終身免維護(hù)、使用壽命長等特點(diǎn)。
2.采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng)。配合瑞士原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng)，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性，已達(dá)到完全消除提拉震動(dòng)的效果，確保涂膜均勻。
3.多參數(shù)全自動(dòng)程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置：下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間，各參數(shù)均連續(xù)可調(diào)，控制。鍍膜程序設(shè)定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過程全自動(dòng)運(yùn)行。
4.鍍膜程序設(shè)定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過程全自動(dòng)運(yùn)行。
5.高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無振動(dòng)，使膜層更均勻、無條紋。
6.采用4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便。運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解鍍膜進(jìn)程。
7.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運(yùn)行時(shí)，到限位處自動(dòng)停止，避免提拉或下降的超限運(yùn)行。
8.采用獨(dú)特設(shè)計(jì)的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片。
9.氮?dú)鈧鞲衅鳌Ｒ约蔼?dú)有的氮?dú)夤?jié)約裝置，氮?dú)庀牧糠浅５汀?br /> 四.技術(shù)參數(shù)
1.提拉速度范圍：1～6000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
2.速度精度：-0.02%～+0.02%
3.zui大行程：約120 mm（以實(shí)際為準(zhǔn)）
4.適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
5.浸漬時(shí)間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.循環(huán)次數(shù)：1～1000次，少1次；
7.每次循環(huán)間隔時(shí)間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.濕度控制范圍：1%～60%RH，zui小可調(diào)1%RH；
9.濕度精度：±3%
10.溫度顯示范圍：-9℃～99℃
11.電源：220V/50Hz

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