浸漬提拉鍍膜機,浸漬提拉機，提拉鍍膜機特點：提拉裝置進口伺服電機高、低速運型平穩限位傳感器獨特設計的夾具本公司提供1.高性能浸漬提拉鍍膜機，型號多樣，有SYDC-100，200,300,500,1000。 還有SYDC-100H，200H，SYDC-100M，SYDC-100N等2.高性能程控勻膠機，SYSC-100,100A，100B，150,200,300等。

工欲善其事 必先利其器 上海三研科技有限公司致力于為納米薄膜材料、納米粉體材料領域的科學研究及產品生產提供優質的儀器設備。 我們的浸漬提拉鍍膜機產品用于溶膠-凝膠法制備納米薄膜材料。不同型號的提拉鍍膜機，可用于從10mm至2000mm不同尺寸基片的納米薄膜制備，可控制膜厚從幾十納米至幾百納米，可在恒溫、氣氛（氮氣）條件下鍍膜，可實現全自動多層材料的鍍膜。采用高精度進口零部件，運行穩定、精密度高、無振動，鍍膜無條紋，設備免維護。 我們的高精度程控勻膠機產品采用高速伺服電機，可用于基底的單面旋轉涂膜，基底材料可選硅片、玻璃、金屬、塑料等材質，基底尺寸從?10mm～?300mm均可涂膜，全自動程序控制，運行穩定。 我們可以提供溶膠-凝膠法制備薄膜材料的技術咨詢服務，從前驅物的選擇、溶膠的配置、鍍膜、到熱處理等一系列的工藝過程都是我們熟悉并擅長的。

浸漬提拉鍍膜機,浸漬提拉機，提拉鍍膜機

SYDC-100

一.產品應用
本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
二.產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、工作時液面無振動，可大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三.產品特點
1.的垂直提拉裝置。新升級為瑞士原裝進口的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
2.采用伺服電機驅動。配合瑞士原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定性，已達到完全消除提拉震動的效果，確保涂膜均勻。
3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
4.高、低速均運行平穩，鍍膜時液面無振動，使膜層更均勻、無條紋。
5.采用4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便。運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程。
6.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降的超限運行。
7.采用獨特設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片。
四.技術參數
1.提拉速度范圍：1～6000 μm/s，zui小分辨率1μm/s； 
2.速度精度：-0.02%～+0.02%；
3.zui大行程：約200 mm；
4.可鍍膜基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
5.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.循環鍍膜次數：1～1000次，少1次；
7.循環鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.電源：220V/50Hz ；

浸漬提拉鍍膜機,浸漬提拉機，提拉鍍膜機

SYDC-200

一.產品應用
本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度，液體濃度和液體粘度決定。
二.產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩定、工作時液面無振動，可大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、產品生產。
三.產品特點
1.新升級為瑞士原裝進口的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
2.采用伺服電機驅動，配合瑞士原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定性，已達到完全消除提拉震動的效果，確保涂膜均勻。
3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。高、低速均運行平穩，鍍膜時液面無振動，使膜層更均勻、無條紋。
4.4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
5.特殊設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會夾壞樣片；
6.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降的超限運行。
四.技術參數
1.提拉速度范圍：1～8000 μm/s，zui小分辨率1μm/s；
2.速度精度：-0.02%～+0.02%
3.zui大行程：約260 mm
4.可鍍膜基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；
5.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.循環鍍膜次數：1～1000次，少1次；
7.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.電源：220V/50Hz 

浸漬提拉鍍膜機,浸漬提拉機，提拉鍍膜機

SYDC-300

一.產品簡介
SYDC-300型浸漬提拉鍍膜機是專門為液相法（特別是sol-gel法）制備納米薄膜材料而設計。將潔凈干燥的基片浸入鍍膜溶液中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度提拉起來，在基片上附著一層膜，稱為“濕凝膠膜”，隨著溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
本產品采用全自動控制系統。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續可調、控制。運行穩定、工作時液面無振動，膜層均勻無條紋。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面鍍膜。應用于科學研究、產品生產。
二.產品特點
1.新升級為瑞士原裝進口的垂直提拉裝置部件，采用特種功能材料制作，具有度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、終身免維護、使用壽命長等特點。
2.采用伺服電機驅動，配合瑞士原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定性，已達到完全消除提拉震動的效果，確保涂膜均勻。
3.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。
4.采用箱體式設計，鍍膜過程在密閉箱體內的恒定空氣環境中進行，防止空氣流動、微風吹動對膜層中溶劑揮發的影響，從而避免對膜層微觀結構的影響。
5.前門及側門采用透明有機玻璃板制作，便于觀察鍍膜過程；
6.可全自動運行鍍膜，也可進入手動操作模式鍍膜；
7.7英寸觸摸屏使控制操作更方便。運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
8.控制系統內置8GB容量內存，自動運行鍍膜的各項參數實時儲存，便于查詢歷史操作記錄。
9.高、低速均運行平穩，鍍膜時液面無振動，使膜層更均勻、無條紋。
10.獨特設計的兩面平口型夾具，夾口兩面都有一層橡膠墊，確保夾持牢固且不會夾壞基片。
三.技術參數
1.提拉速度范圍：1～10000 μm/s，zui小分辨率1 μm/s；
2.速度精度：-0.01%～+0.01%；
3.zui大行程：370 mm（以實際為準）；
4.適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 300×300 mm，厚度 MAX 10mm；
5.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.鍍膜次數：1～1000次，少1次；
7.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.電源：220V/50H；

SYDC-500

一.產品應用
本產品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）
中，通過預先設置的參數，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，
稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干
凝膠膜”經過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度，液
體濃度和液體粘度決定。
二.產品簡介
浸漬提拉鍍膜機是專門為液相（特別是sol-gel 法）制備薄膜材料的研究工作而設計，對不
同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數（多次多層鍍膜）、
鍍膜間隔時間均連續可調、控制。對鍍膜基質無特殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍
膜。運行穩定、工作時液面無振動，可大提高實驗精度與實驗效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應用于科學研究、
產品生產。
三.產品特點
1.采用伺服電機驅動，配合原裝進口的垂直提拉裝置和程序控制系統，確保運行精度及穩定
性；伺服電機運轉時的、平滑性、無抖動等特點是步進電機不可比擬的。原裝進口
的垂直提拉裝置具有度高、傳動無間隙、運行平滑、耐腐蝕、免維護、使用壽命長等
特點。
2.多參數全自動程序控制。共有六個參數設置：下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、
鍍膜次數、鍍膜間隔時間，各參數均連續可調，控制。鍍膜程序設定后，從下降到浸
漬，再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運行。也可進入手動操作模式鍍膜；
3.采用箱體式設計，鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內，避免外界環境（微風和灰塵）的干
擾；前門及側面采用透明玻璃，便于觀察鍍膜過程；
4.高、低速均運行平穩，鍍膜時液面無振動，使膜層更均勻、無條紋。
5.上下兩端均安裝有限位傳感器，提拉或下降運行時，到限位處自動停止，避免提拉或下降
的超限運行。
6.采用10 英寸觸摸屏使控制更方便，運行時，各項參數實時顯示，更直觀了解鍍膜進程；
7.標配3 套夾具夾持基片，更牢固更穩定。采用獨特設計的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，
不會夾壞樣片。
四. 技術參數
1.提拉速度范圍：1～10000 μm/s，zui小分辨率1 μm/s；
2.速度精度：-0.01%～+0.01%
3.zui大行程：540mm (以實際為準) ；
4.可鍍膜基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 500×500 mm，厚度 MAX 10mm。
5.浸漬時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
6.鍍膜次數：1～200 次，少1 次；
7.每次鍍膜間隔時間：1～3600 s，zui小分辨率1s；
8.電源：220V/50Hz

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