●微機智能控制系統，升溫迅速，溫度穩定，操作簡便。 

●水油兩用：室溫～100℃、室溫～200℃ 

●LED雙窗口分別數顯溫度測量值及溫度設定值，數顯分辨率0.01℃或0.1℃，觸摸按鍵操作方便。 

●可內外循環，內循環保證溫度均勻恒定，循環泵可把槽內被加熱液體外引去加熱或恒溫機外實驗器。 

●可選配冷水循環裝置，通入自來水實現體系內部快速降溫，適合于高溫下放熱反應的溫度控制 

●恒溫油槽適合于電子檢測,化工反應，高溫蒸餾，半導體工業等。

低溫不凍液配比

A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）

B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其溫度必須在0℃以上。

冷卻水選型相關：通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。制冷能力在6000W以下中型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業，旋轉蒸發儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業。制冷能力在10KW以上大型循環水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。

應用范圍：

對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。

對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。

其他產業用機器發熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。

分析檢測機器的發熱部分的冷卻： 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優質的純凈水在機內外循環冷卻，可保證對水質要求較高的儀器的正常運行，延長儀器的使用壽命。