器由倒置式改為正置式，更符合人們的操作習慣；
應用CMOS代替CCD，省去圖象卡并提高了質量；
用低壓電源代替高壓電源，節省了儀器成本；
用國產的代替德國進口壓電陶瓷，解決了關鍵部件的進口難題；
增加了自動步距和亮度校正程序，同時增加了局部放大三維立體圖功能；

 表面微觀不平深度測量范圍：130?1nm
 測量的重復性：sRa≤0.5nm
 測量精度：8nm
 物鏡倍率：40X
 數值孔徑：0.65
 儀器視場  目視：f0.25mm
                    攝象：0.13X0.13mm
儀器放大倍數  目視：500X
                            攝象（計算機屏幕觀察）：2500X
  接收器測量列陣：1000X1000
  象素尺寸：5.2X5.2nm