半導體制程PVD沉積臺

成都漢普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設備的技術提升，在服務領域深耕細作，具有較深的技術沉積。
公司成立以來，秉承“超越極限，邁向卓越”的核心價值觀，在自己所擅長領域為客戶提供優良的產品和技術解決方案，公司注重產品和運營模式創新，我們堅信：唯有創新方能給用戶增值，公司已與多家科研院所、高等院校及企事業單位進行橫向合作，形成了科研級、工業級、軍品級產品體系，已為客戶設計制造了多套專用設備和儀器，獲得了用戶廣泛贊譽。

●本裝置使用電阻蒸發、電子束蒸發和離子源輔助清洗、輔助沉積和原位刻蝕進行復合，用于制備特種薄膜，薄膜具有均勻性、附著力、抗損傷、低顆粒物污染等特點，是半導體制程中關鍵工序的核心裝備，其技術長期被美國、日本等國技術巨頭所壟斷，屬于國內卡脖子裝備，也是制約國內半導體領域自主可控的關鍵設備，該設備的技術突破和產業化對國內半導體產業發展具有積極意義。

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