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過程質譜儀應用于半導體光刻中極紫外光源技術

伯東企業（上海）有限公司

會員指數：

企業認證：

價格：電議

所在地：上海

型號：

更新時間：2022-08-24

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公司地址：上海浦東新區新金橋路1888號36號樓7樓702室

13918837267 葉小姐(女士) 銷售工程師

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產品簡介

上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數據實現了最佳的反射板鍍錫層清潔, Aston? 過程質譜的實時氫氣監測也降低了每個 EUV 工具的氫氣消耗!

公司簡介

伯東企業（上海）有限公司專業代理各國知名真空產品位于中國上海浦東外高橋保稅區的伯東企業（上海）有限公司創建于1995年12月，是日本伯東株式會社獨資設立的外商投資企業，公司注冊資金為200萬美元，到目前為止公司從業員工有400多人。
伯東企業（上海）有限公司 (www.hakuto-vacuum.cn）專業銷售及維修德國Pfeiffer單雙級旋片泵，干泵，羅茨泵，分子泵；應用于各種條件下的真空測量(真空計, 真空規管)；檢漏儀，質譜儀，真空系統等等, 維修技術力量雄厚，保證 100 % 擁有標準的德國Pfeiffer原廠測試設備及調整工具和德國Pfeiffer專業培訓工程師，多年來致力于真空系統的安裝、調試、維修、拆機、保養等，具有優良的專業技能和服務意識，并獲得原廠授權維修資質證書。利用 Pfeiffer 進口檢測設備對維修后的產品做全方位性能測試。另外公司還代理美國Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低溫泵, Polycold 冷凍機和美國KRI 離子源，HVA 高真空閥門。
公司一直堅持品質一、信譽至上的原則，為廣大客戶提供了高品質的產品以及良好的售后服務。到目前為止已先后通過了美國UL安全認證、ISO9001－2000質量體系認證、ISO14001－1996環境體系認證。公司將在今后的發展中秉承以人為本，不斷開拓進取的精神，為滿足客戶的需求努力向專業化、優質化、集團化發展。

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產品說明

價格貨期電議
Aston? 過程質譜儀應用于半導體光刻中極紫外光源技術
EUV 極紫外光刻技術越來越多地被用于支持 <10nm 工藝技術的關鍵尺寸圖案. 管理這些價值超過 2億美元的光刻機的運行時間和生產量對晶圓廠的經濟至關重要. 上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數據實現了最佳的反射板鍍錫層清潔, Aston? 過程質譜的實時氫氣監測也降低了每個 EUV 工具的氫氣消耗!

隨著工藝幾何尺寸的不斷縮小, 半導體工藝制造商面臨著新的挑戰. 在先進的極紫外 EUV 光刻技術中, 13.5nm 波長的光源是通過二氧化碳 CO2 激光器蒸發熔融錫 Sn 液滴, 產生等離子體而產生的. 大批量生產的關鍵挑戰包括控制蒸發錫再沉積的光學污染造成的缺陷.

光源產生的一個副產品是 EUV 光源反射光學元件上的錫 Sn 碎片, 該反射光學元件聚焦等離子體發出的EUV光. 收集鏡涂層表面上的錫沉積導致EUV鏡的反射率降低. 鍍錫厚度約為 1nm（只有幾個原子層）會使收集鏡反射率降低多達10%, 通常被視為收集鏡壽命規范. 這種污染增加了提供足夠的 EUV 功率以形成晶圓圖案所需的時間, 因此降低了光刻產量, 并可能影響光刻圖案的定義. 解決措施包括使用氫等離子體 (結合磁場) 以錫烷氣體 SnH4 的形式化學去除錫, 然后從真空室有效排氣, 并防止錫進一步再沉積.

上海伯東 Aston? 過程質譜提供解決方案
Aston? 過程質譜價值在于通過監測從 EUV 室中抽空所有錫原子的效率和優化氫氣 H2 流量, 實現有效的終點檢測. 通過減少氣體流量, 可以降低每分鐘 100標準升的高純度氫氣消耗量.

在反射板清潔期間, 需要實現現場測量, 快速, 準確地測量錫 SnH4 端點, 確保以高效的方式清除錫沉積物, Aston? 過程質譜儀可以測量 H2大氣中 0.01-1 ppm 濃度下的 SnH4. 此外, Aston? 可以監測EUV 工具前端的氣體成分.

若您需要進一步的了解 Atonarp Aston? 在線質譜分析儀詳細信息或討論, 請參考以下聯絡方式：

上海伯東 : 羅先生                               臺灣伯東 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
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                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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