測量時，先使平晶邊緣輕輕地與被測表面接觸，逐漸使整個表面接觸，再調整平晶使與被測表面之間保持一微小夾角，直到出現清晰的干涉條紋為止。如干涉條紋很密而調整平晶位置又不能使干涉條紋的間距加寬，則說明被測表面或平晶上有微塵或其他雜物，應清洗。

  光在平晶表面反射和被測表面反射回來的光線形成干涉現象。由于被測表面平面度的影響，干涉光線的光程差不同，因此形成干涉條紋。通過測量干涉條紋的彎曲量并計算可得被測樣品的平面度。
          

  是利用光線的干涉原理，在波的傳播過程中，介質中質點的振動雖頻率相同，但步調不一致，兩個質點的振動步調一致，為同相點；介質中各質點同時參與兩個振源引起的振動。

  質點的振動為這兩個振動的矢量和，距離差為波長的整數倍時，兩波源在P點引起的振動的步調一致，為同相振動，疊加結果是兩數值之和，即振動加強，是強點；疊加結果是兩數值之差，即振動減弱，是弱點；由此看來，強點與弱點只與位置有關，不隨時間變化。正因為不隨時間變化，才被觀察到，才能形成干涉圖樣。