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雙波長紫外臭氧清洗機(185nm和254nm)

發布時間:2024-04-25瀏覽次數:1030返回列表

紫外臭氧清洗機 型號:DP-UV2

 概述

紫外臭氧清洗機是一種干法清洗設備,可用于清洗多種單晶基片,以成好的成膜質量。同時也可去除光刻膠、改善材料表面潤濕性、清洗SEM和TEM樣品及紫外活化聚合物等。

紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氧,254nm可以破壞化合物中的鍵(特別是碳碳鍵);所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機化合物。

參數 指標

材質 內部采用不銹鋼材料

結構 抽屜式樣品臺,取、放基板簡單、方便

氣路 預留進氣接口,豐富設備的清洗種類

保護 抽屜開合與UV燈工作互鎖,避免紫外線傷害

計時 按鍵定時器,數顯倒計時,放便直觀

操作 清洗工作進程可以任意時間手動終止

可選配件 可選臭氧中和器,避免臭氧傷害

電氣 指標

清洗波段 185nm和254nm

距離UV燈3-5mm平均光強 28~32mW/cm2

燈管 雙波低壓汞燈X2

燈管功率 300W

燈管尺寸 300mm×300mm

照射區域 300mm×300mm(基臺尺寸305×340mm)

可調照射距離 5~60mm

定時器工作范圍 0~99min99s  具有自動倒計時功能

機械 指標

進、出氣口 進氣口:φ8mm,出氣口:φ50mm

設備外型尺寸 

長( 430mm)×寬( 380mm)×高( 320mm)

(含臭氧中和器的尺寸為)長580mm×寬380mm×高420mm

重量 26KG